Aktuelles und Veranstaltungen

Dr. Dominik Zimmermann wird Prokurist und Chief Business Development Officer (CBDO)

Mit Wirkung zum 1. Februar 2024 hat Dr. Dominik Zimmermann die Prokura erhalten und wurde zum Chief Business Development (CBDO) ernannt. In seiner neuen Funktion wird Zimmermann weiterhin den Geschäftsbereich OWIS Engineering verantworten und gemeinsam mit dem OWIS-Führungsteam um Geschäftsführer Rüdiger Ruh die weitere Unternehmemsentwicklung vorantreiben.

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Die neue Generation von Positioniertischen mit Direktantrieb ist da.

Wir haben unser Sortiment an motorisierten Positioniertischen um eine neue Generation Linear- und Drehtische mit Direktantrieb angereichert. Die drei neuen Produkte LINPOS S, LINPOS M und ROTPOS vereinen sechs Vorzüge. Lernen Sie die neue Generation kennen und entdecken Sie Pluspunkte.

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Sommerfest 2023

Unter dem Motto „gemeinsam erstrahlen“ erwartete unsere Mitarbeiter:innen mit Familien ein Abend voller Freude, Spaß und Gemeinschaft. Bei Speis und Trank genossen wir unter warmen Sonnenstrahlen eine gesellige Zeit miteinander.

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Kommende Veranstaltungen

SIAMS

Fachmesse für Mikrotechnik

16. - 19. April, 2024
Moutier, Schweiz

Vertreten durch:
teltec systems ag

EPHJ

11. – 14. Juni , 2024
Palexpo, Genf - Schweiz

Vertreten durch:
teltec systems ag

RNO

Nationale Optik-Konferenz

03. – 05, July, 2024
Universität Murcia - Spain

Vertreten durch:
Pro-Lite Technology Iberia S.L.

SRI 2024 Hamburg

27. – 29. August, 2024
CCH / Hamburg

 

SPS

Schweizerischen Physikalischen Gesellschaft

9. - 13. September, 2024
ETH Zürich - Schweiz

Vertreten durch:
teltec systems ag

W3+ Fair Jena

25. - 26. September, 2024
Sparkassen-Arena Jena

Stand-Nr. C11b

 

Applikationsberichte

Großflächige 3D-Oberflächenprüfung mit Weißlichtinterferometrie

Für die Gesellschaft für Bild- und Signalverarbeitung (GBS) mbH haben wir ein kundenspezifisches Portalsystem entwickelt, das auf einem Arbeitsraum von 1.250 mm x 550 mm x 45 mm sowohl ein präzises Anfahren einzelner Messpunkte als auch das Scannen der gesamten Oberfläche ermöglicht.

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Aufbau zur Bestimmung atomarer Abstände

An der TU Berlin gelang es der Arbeitsgruppe „Analytische Röntgenphysik“ von Prof. Dr. Birgit Kanngießer eine Methode zu entwickeln, die das Licht einer Röntgenröhre effizient nutzt und mit geringem Brillanz-Verlust auf einen Detektor leitet. So lassen sich Messungen zur Bestimmung atomarer Abstände auch in kleineren Laboren durchführen. OWIS Positioniersysteme vereinfachen die Bedienung dabei entscheidend.

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Festphasen-Fluorospektrometer

Die Fluoreszenzspektroskopie nutzt Fluoreszenz-Phänomene zur Analyse von Substanzen. Sie unterscheidet sich von einigen anderen Spektroskopien, indem sie die Emission anstatt der Absorption der fluoreszierenden Strahlung misst. Das Forschungsinstitut „wfk – Cleaning Technology Institute e.V.“ in Krefeld untersucht beispielsweise Anschmutzungen auf Stoffoberflächen, um fluoreszenzmarkierte Bakterien zu erfassen. Dieses Verfahren wird zur Evaluation einer erfolgreichen Hygiene bei Waschverfahren verwendet.

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Linienlaser Alignment

Ein perfekt eingestellter Linienlaser soll eine homogene Linie abbilden. Dies stellt die Laser-Hersteller vor verschiedene Herausforderungen, wie beispielsweise die Geradheit der Linie, eine homogene Intensitätsverteilung sowie die Orientierung der Laserlinie in Bezug auf das Gehäuse. Um das Ziel einer homogenen Linie zu erreichen, muss eine anamorphe refraktive Optik präzise zu einem kollimierten Strahl aus einem Lasermodul ausgerichtet werden.

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Das FXE Instrument

Femtosekundenschnelle Spektroskopie mit Röntgenstrahlung ist eine Aufgabe des European XFEL, eines 3,4 km langen Röntgenlasers in der Metropolregion Hamburg. Die FXE-Gruppe (Femtosecond X-Ray Experiments) beschäftigt sich u.a. mit zeitaufgelösten Untersuchungen der Dynamik von Festkörpern und Flüssigkeiten. Hierzu wurde ein Röntgen-Emissions-Spektrometer installiert, welches 16 einzelne Beugungskristalle miteinander vereint.

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Probenvermessung

In unserem Beispiel aus der Messtechnik und Analytik sollen hunderte Proben so schnell wie möglich analysiert werden. Bei dieser Anwendung ist nicht die laterale Verfahrgeschwindigkeit sondern die Prozesszeit der Hauptkostenpunkt. Durch die Summe der vertikalen Toleranzen aller Komponenten bedarf es einer individuellen Nachfokussierung der Kamera. Um diese zeitintensive Nachfokussierung zu vermeiden, werden unsere Positioniereinheiten auf maximale Ebenheit gefertigt, montiert und vermessen. Durch diese hohe Präzision von nur wenigen Mikrometern kann in vielen Applikationen auf die Nachfokussierung gänzlich verzichtet werden.

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