Aktuelles und Veranstaltungen

OWIS mit neuem Eigentümer

OWIS mit neuem Eigentümer: Der bisherige Geschäftsführer und Gesellschafter Rüdiger Ruh übernimmt mit Wirkung zum 1. Januar 2021 das Unternehmen. Mit dieser Übernahme erhält OWIS eine auf die Zukunft ausgerichtete Strategie.

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Kommende Veranstaltungen

SIAMS

21. - 24. April 2026
Moutier, Schweiz

Vertreten durch:
teltec systems ag

The Korean Physical Society

22. - 24. April 2026
Gangnam-gu - Korea

Vertreten durch:
Limotion Systems

EPHJ

16. – 19. Juni 2026
Palexpo, Genf - Schweiz

Vertreten durch:
teltec systems ag

Quantum Korea 2026

02. - 10. July  2026
Seoul - Korea

Vertreten durch:
Limotion Systems

Laser Korea 2026

08. - 10. July 2026
International Exhibition Center KINTEXl - Korea

Vertreten durch:
Limotion Systems

Dutch Photonics Event

23. – 24. September 2026
Brabanthallen - Den Bosch (Niederlande)

Vertreten durch:
Te Lintelo Systems BV

W3+ Fair Jena

23. – 24. September 2026
Sparkassen-Arena
Jena (Germany)

Vertreten durch: OWIS

2026 Motion Control Show

14. - 16. October 2026
Seoul, Coex, hall c&d - Korea

Vertreten durch:
Limotion Systems

Precision Fair

18. -19. 2026 November
Brabant hall in Hertogenbosch - Niederlande

Represented by:
Te Lintelo Systems BV

Applikationsberichte

OWIS Positioniersysteme in der digital- holographischen 3D-Messtechnik

Die digital-holographische 3D-Messtechnik ermöglicht die schnelle und gleichzeitig hochpräzise Messung der Bauteiloberfläche. Zur Positionierung der Bauteile verwendet das Fraunhofer-Institut für Physikalische Messtechnik IPM zwei direktangetriebene Linearachsen LINPOS von OWIS.

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Großflächige 3D-Oberflächenprüfung mit Weißlichtinterferometrie

Für die Gesellschaft für Bild- und Signalverarbeitung (GBS) mbH haben wir ein kundenspezifisches Portalsystem entwickelt, das auf einem Arbeitsraum von 1.250 mm x 550 mm x 45 mm sowohl ein präzises Anfahren einzelner Messpunkte als auch das Scannen der gesamten Oberfläche ermöglicht.

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Aufbau zur Bestimmung atomarer Abstände

An der TU Berlin gelang es der Arbeitsgruppe „Analytische Röntgenphysik“ von Prof. Dr. Birgit Kanngießer eine Methode zu entwickeln, die das Licht einer Röntgenröhre effizient nutzt und mit geringem Brillanz-Verlust auf einen Detektor leitet. So lassen sich Messungen zur Bestimmung atomarer Abstände auch in kleineren Laboren durchführen. OWIS Positioniersysteme vereinfachen die Bedienung dabei entscheidend.

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Festphasen-Fluorospektrometer

Die Fluoreszenzspektroskopie nutzt Fluoreszenz-Phänomene zur Analyse von Substanzen. Sie unterscheidet sich von einigen anderen Spektroskopien, indem sie die Emission anstatt der Absorption der fluoreszierenden Strahlung misst. Das Forschungsinstitut „wfk – Cleaning Technology Institute e.V.“ in Krefeld untersucht beispielsweise Anschmutzungen auf Stoffoberflächen, um fluoreszenzmarkierte Bakterien zu erfassen. Dieses Verfahren wird zur Evaluation einer erfolgreichen Hygiene bei Waschverfahren verwendet.

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Linienlaser Alignment

Ein perfekt eingestellter Linienlaser soll eine homogene Linie abbilden. Dies stellt die Laser-Hersteller vor verschiedene Herausforderungen, wie beispielsweise die Geradheit der Linie, eine homogene Intensitätsverteilung sowie die Orientierung der Laserlinie in Bezug auf das Gehäuse. Um das Ziel einer homogenen Linie zu erreichen, muss eine anamorphe refraktive Optik präzise zu einem kollimierten Strahl aus einem Lasermodul ausgerichtet werden.

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Das FXE Instrument

Femtosekundenschnelle Spektroskopie mit Röntgenstrahlung ist eine Aufgabe des European XFEL, eines 3,4 km langen Röntgenlasers in der Metropolregion Hamburg. Die FXE-Gruppe (Femtosecond X-Ray Experiments) beschäftigt sich u.a. mit zeitaufgelösten Untersuchungen der Dynamik von Festkörpern und Flüssigkeiten. Hierzu wurde ein Röntgen-Emissions-Spektrometer installiert, welches 16 einzelne Beugungskristalle miteinander vereint.

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Probenvermessung

In unserem Beispiel aus der Messtechnik und Analytik sollen hunderte Proben so schnell wie möglich analysiert werden. Bei dieser Anwendung ist nicht die laterale Verfahrgeschwindigkeit sondern die Prozesszeit der Hauptkostenpunkt. Durch die Summe der vertikalen Toleranzen aller Komponenten bedarf es einer individuellen Nachfokussierung der Kamera. Um diese zeitintensive Nachfokussierung zu vermeiden, werden unsere Positioniereinheiten auf maximale Ebenheit gefertigt, montiert und vermessen. Durch diese hohe Präzision von nur wenigen Mikrometern kann in vielen Applikationen auf die Nachfokussierung gänzlich verzichtet werden.

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