Aktuelles und Veranstaltungen

Sommerfest 2024

„Ein Sommerfest für die ganze Familie: Gemeinsam lachen, spielen und feiern – Für unsere Mitarbeiter und ihre Kinder, die den Erfolg unserer Firma erst möglich machen. Auf einen Tag voller Freude, Teamgeist und unvergesslicher Momente!“

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So treiben wir den Fortschritt an – besuchen Sie uns auf der W3+ in Jena

Wir von OWIS verwirklichen die wegweisenden Ideen unserer Kunden und treiben den Fortschritt in Hightech-Industrien voran. Dabei setzen wir auf unsere hochwertigen Standardkomponenten, unsere herausragende Engineering-Kompetenz und unseren Ansporn, technologische Grenzen zu verschieben. Besuchen Sie uns am 25./26. September 2024 auf der W3+ in Jena. Die Netzwerkmesse bringt die Branchen Photonik, Optik, Elektronik und Mechanik zusammen. Da sind wir von OWIS natürlich mit dabei!

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Stadtradeln 2024

In 21 Tagen knapp 1.000 kg CO2 vermeiden? Das geht ganz einfach: Wir haben unsere Wege mit zwei statt mit vier Rädern in Angriff genommen und dabei unsere Kilometer gezählt. Danke an STADTRADELN 2024 für diese tolle Aktion! Finden Sie heraus, wie viele Kilometer man mit dem Fahrrad fahren muss, um so viel CO2 einzusparen, und entdecken Sie, was wir sonst noch erreicht haben!

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Kommende Veranstaltungen

W3+ Fair Jena

25. - 26. September 2024
Sparkassen-Arena, Jena

Stand-Nr.: C11b

 

MICRONORA

24. - 27. September 2024
Besançon, Frankreich

Vertreten durch:
TRIOPTICS France

SPIE Photonics West Exhibition 2025

28. – 30. Januar  2025
The Moscone Center, San Francisco
USA

Stand-Nr.: 4635

Vertreten durch:
OWIS GmbH und Pacific Laser Equipment (USA)

Applikationsberichte

Großflächige 3D-Oberflächenprüfung mit Weißlichtinterferometrie

Für die Gesellschaft für Bild- und Signalverarbeitung (GBS) mbH haben wir ein kundenspezifisches Portalsystem entwickelt, das auf einem Arbeitsraum von 1.250 mm x 550 mm x 45 mm sowohl ein präzises Anfahren einzelner Messpunkte als auch das Scannen der gesamten Oberfläche ermöglicht.

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Aufbau zur Bestimmung atomarer Abstände

An der TU Berlin gelang es der Arbeitsgruppe „Analytische Röntgenphysik“ von Prof. Dr. Birgit Kanngießer eine Methode zu entwickeln, die das Licht einer Röntgenröhre effizient nutzt und mit geringem Brillanz-Verlust auf einen Detektor leitet. So lassen sich Messungen zur Bestimmung atomarer Abstände auch in kleineren Laboren durchführen. OWIS Positioniersysteme vereinfachen die Bedienung dabei entscheidend.

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Festphasen-Fluorospektrometer

Die Fluoreszenzspektroskopie nutzt Fluoreszenz-Phänomene zur Analyse von Substanzen. Sie unterscheidet sich von einigen anderen Spektroskopien, indem sie die Emission anstatt der Absorption der fluoreszierenden Strahlung misst. Das Forschungsinstitut „wfk – Cleaning Technology Institute e.V.“ in Krefeld untersucht beispielsweise Anschmutzungen auf Stoffoberflächen, um fluoreszenzmarkierte Bakterien zu erfassen. Dieses Verfahren wird zur Evaluation einer erfolgreichen Hygiene bei Waschverfahren verwendet.

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Linienlaser Alignment

Ein perfekt eingestellter Linienlaser soll eine homogene Linie abbilden. Dies stellt die Laser-Hersteller vor verschiedene Herausforderungen, wie beispielsweise die Geradheit der Linie, eine homogene Intensitätsverteilung sowie die Orientierung der Laserlinie in Bezug auf das Gehäuse. Um das Ziel einer homogenen Linie zu erreichen, muss eine anamorphe refraktive Optik präzise zu einem kollimierten Strahl aus einem Lasermodul ausgerichtet werden.

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Das FXE Instrument

Femtosekundenschnelle Spektroskopie mit Röntgenstrahlung ist eine Aufgabe des European XFEL, eines 3,4 km langen Röntgenlasers in der Metropolregion Hamburg. Die FXE-Gruppe (Femtosecond X-Ray Experiments) beschäftigt sich u.a. mit zeitaufgelösten Untersuchungen der Dynamik von Festkörpern und Flüssigkeiten. Hierzu wurde ein Röntgen-Emissions-Spektrometer installiert, welches 16 einzelne Beugungskristalle miteinander vereint.

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Probenvermessung

In unserem Beispiel aus der Messtechnik und Analytik sollen hunderte Proben so schnell wie möglich analysiert werden. Bei dieser Anwendung ist nicht die laterale Verfahrgeschwindigkeit sondern die Prozesszeit der Hauptkostenpunkt. Durch die Summe der vertikalen Toleranzen aller Komponenten bedarf es einer individuellen Nachfokussierung der Kamera. Um diese zeitintensive Nachfokussierung zu vermeiden, werden unsere Positioniereinheiten auf maximale Ebenheit gefertigt, montiert und vermessen. Durch diese hohe Präzision von nur wenigen Mikrometern kann in vielen Applikationen auf die Nachfokussierung gänzlich verzichtet werden.

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