Aktuelles und Veranstaltungen

OWIS ist auf der Zielgerade2030

Photovoltaik, Wärmerückgewinnung, Ladestationen, Elektromobiltät, Jobbike… Die Weichen haben wir längst gestellt. Seit Jahren investieren wir an unserem Unternehmenssitz in Staufen in erneuerbare Energien und mehr Energieeffizienz. Jetzt wollen wir es genau wissen!

Zum Beitrag

OWIS auf Mission

Sensationell, was sich in kürzester Zeit realisieren lässt. Als wir uns überlegten, wie wir unser neuestes Highlight, ein hochpräzises Positionssystem zur Vermessung von Oberflächenstrukturen großer Bauteile präsentieren, dachten wir nicht daran, dass wir eine Woche später mitten in der Nacht einen Film darüber drehen werden. Jetzt ist der Film fertig und übertrifft unsere Erwartungen. Überzeugen Sie sich selbst!

Zum Beitrag

Dr. Patrick Rapp besucht OWIS

Der Staatssekretär im Ministerium für Wirtschaft, Arbeit und Tourismus war zu Gast bei OWIS GmbH in Staufen.

Zum Beitrag

Kommende Veranstaltungen

SIAMS

Fachmesse für Mikrotechnik

16. - 19. April, 2024
Moutier, Schweiz

Vertreten durch:
teltec systems ag

EPHJ

11. – 14. Juni , 2024
Palexpo, Genf - Schweiz

Vertreten durch:
teltec systems ag

RNO

Nationale Optik-Konferenz

03. – 05, July, 2024
Universität Murcia - Spain

Vertreten durch:
Pro-Lite Technology Iberia S.L.

SRI 2024 Hamburg

27. – 29. August, 2024
CCH / Hamburg

 

SPS

Schweizerischen Physikalischen Gesellschaft

9. - 13. September, 2024
ETH Zürich - Schweiz

Vertreten durch:
teltec systems ag

W3+ Fair Jena

25. - 26. September, 2024
Sparkassen-Arena Jena

Stand-Nr. C11b

 

Applikationsberichte

Großflächige 3D-Oberflächenprüfung mit Weißlichtinterferometrie

Für die Gesellschaft für Bild- und Signalverarbeitung (GBS) mbH haben wir ein kundenspezifisches Portalsystem entwickelt, das auf einem Arbeitsraum von 1.250 mm x 550 mm x 45 mm sowohl ein präzises Anfahren einzelner Messpunkte als auch das Scannen der gesamten Oberfläche ermöglicht.

Zum Beitrag

Aufbau zur Bestimmung atomarer Abstände

An der TU Berlin gelang es der Arbeitsgruppe „Analytische Röntgenphysik“ von Prof. Dr. Birgit Kanngießer eine Methode zu entwickeln, die das Licht einer Röntgenröhre effizient nutzt und mit geringem Brillanz-Verlust auf einen Detektor leitet. So lassen sich Messungen zur Bestimmung atomarer Abstände auch in kleineren Laboren durchführen. OWIS Positioniersysteme vereinfachen die Bedienung dabei entscheidend.

Zum Beitrag

Festphasen-Fluorospektrometer

Die Fluoreszenzspektroskopie nutzt Fluoreszenz-Phänomene zur Analyse von Substanzen. Sie unterscheidet sich von einigen anderen Spektroskopien, indem sie die Emission anstatt der Absorption der fluoreszierenden Strahlung misst. Das Forschungsinstitut „wfk – Cleaning Technology Institute e.V.“ in Krefeld untersucht beispielsweise Anschmutzungen auf Stoffoberflächen, um fluoreszenzmarkierte Bakterien zu erfassen. Dieses Verfahren wird zur Evaluation einer erfolgreichen Hygiene bei Waschverfahren verwendet.

Zum Beitrag

Linienlaser Alignment

Ein perfekt eingestellter Linienlaser soll eine homogene Linie abbilden. Dies stellt die Laser-Hersteller vor verschiedene Herausforderungen, wie beispielsweise die Geradheit der Linie, eine homogene Intensitätsverteilung sowie die Orientierung der Laserlinie in Bezug auf das Gehäuse. Um das Ziel einer homogenen Linie zu erreichen, muss eine anamorphe refraktive Optik präzise zu einem kollimierten Strahl aus einem Lasermodul ausgerichtet werden.

Zum Beitrag

Das FXE Instrument

Femtosekundenschnelle Spektroskopie mit Röntgenstrahlung ist eine Aufgabe des European XFEL, eines 3,4 km langen Röntgenlasers in der Metropolregion Hamburg. Die FXE-Gruppe (Femtosecond X-Ray Experiments) beschäftigt sich u.a. mit zeitaufgelösten Untersuchungen der Dynamik von Festkörpern und Flüssigkeiten. Hierzu wurde ein Röntgen-Emissions-Spektrometer installiert, welches 16 einzelne Beugungskristalle miteinander vereint.

Zum Beitrag

Probenvermessung

In unserem Beispiel aus der Messtechnik und Analytik sollen hunderte Proben so schnell wie möglich analysiert werden. Bei dieser Anwendung ist nicht die laterale Verfahrgeschwindigkeit sondern die Prozesszeit der Hauptkostenpunkt. Durch die Summe der vertikalen Toleranzen aller Komponenten bedarf es einer individuellen Nachfokussierung der Kamera. Um diese zeitintensive Nachfokussierung zu vermeiden, werden unsere Positioniereinheiten auf maximale Ebenheit gefertigt, montiert und vermessen. Durch diese hohe Präzision von nur wenigen Mikrometern kann in vielen Applikationen auf die Nachfokussierung gänzlich verzichtet werden.

Zum Beitrag
1 / 6

Abonnieren Sie den OWIS Newsletter

Gehören Sie zu den Ersten, die die neuesten Informationen über Produkte und Systeme, Lösungen aus der Praxis, Menschen bei OWIS, aktuelle Veranstaltungen und vieles mehr erhalten.

 

Meine Liste

Produkte Summe
Gesamt Netto 0,00 EUR
zzgl. gesetzl. Mehrwertsteuer 0,00 EUR
Gesamt 0,00 EUR
Zu Meiner Liste